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リソグラフィ

リソグラフィ(Lithography) 石版に絵や字を描くこと。リトグラフを参照。 ナノリソグラフィの略。半導体、集積回路、印刷用の版を作成するのに用いられる。 このページは曖昧さ回避のためのページです。一つの語句が複数の意味・職能を有する場合の水先案内のために、異なる用法を一覧にしてあります。お探

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マスクレス リソグラフィ

2013年、Swinburne工科大学は異なる波長の2本の光学ビームを組み合わせて使用することにより9 nmのサイズに52 nm間隔に到達したと発表した。 集束イオンビームシステムはイオン注入用や他の形式では対応できない用途において現在一般的に使用される。 IBMは原子間力顕微鏡の技術を元にした代替マスクレスリソグラフィーを開発した。参照

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b 生井準人, 杉田光, 日城良樹. "自己組織化材料の半導体微細パターニングへの応用" JSR テクニカルレビュー 119 (2012): 7-13. ^ a b c d MITとSRC、誘導自己組織化(DSA)による微細パターン形成を容易にするテンプレート設計法 白鳥世明、「交互吸着自己組織化膜のナノ構造制御とデバイス応用」