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ナノリソグラフィ
ナノ
リソグラフィ (Nanolithography) は
ナノ
テクノロジーの一分野で原子から約100 nmの規模の
ナノ
メートルスケールの構造体やパターンの形成に用いられる。
ナノ
リソグラフィは最先端の半導体集積回路（
ナノ
電子回路（英語版））や
ナノ
電気機械システム (NEMS) の製造で活用される。
